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触媒評価システム

簡単な説明:

基本的なプロセス:システムは、水素と窒素の2つのガスを供給します。これらのガスは、それぞれ圧力調整器によって制御されます。水素はマスフローコントローラーによって計量されて供給され、窒素は回転計によって計量されて供給された後、反応器に送られます。連続反応は、ユーザーが設定した温度と圧力の条件下で実行されます。


製品の詳細

製品タグ

このシステムは、主に水素化反応におけるパラジウム触媒の性能評価とプロセス条件の探索試験に使用されます。

基本的なプロセス:システムは、水素と窒素の2つのガスを供給します。これらのガスは、それぞれ圧力調整器によって制御されます。水素はマスフローコントローラーによって計量されて供給され、窒素は回転計によって計量されて供給された後、反応器に送られます。連続反応は、ユーザーが設定した温度と圧力の条件下で実行されます。

動作特性:システムの圧力安定性は、入口ガス圧力制御バルブとベントガスカウンターバランスバルブの協力により正確に制御されます。温度制御は、電気発熱体を制御するためにPIDインテリジェント温度制御メーターを採用しています。反応過程での発熱による温度暴走については、温度暴走の程度に応じて冷却水の流れを調整することにより、コンピュータが自動的にPID制御を完了します。システム全体は、温度、圧力、攪拌、フロー制御、入口ガス圧力調整、および圧力カウンターバランスをキャビネットに統合します。

全体の寸法は500*400*600です。

製品説明

システムの圧力安定性は、入口ガス圧力制御バルブとベントガスカウンターバランスバルブの協力により正確に制御されます。水素ガスの流量は、バイパスと手動のマイクロコントロールバルブを備えたブルックス流量計によって正確に測定されます。水素化反応の特徴によると、反応温度の制御は、加熱炉と冷却水の流量のPID制御、および温度暴走によって実現されます。機器のセット全体がフレーム全体に統合されており、設置と操作が簡単で、安全で信頼性があります。

技術仕様

反応圧力 0.3MPa(3バール)
設計圧力 1.0MPa(10バール)
反応温度 60℃、精度:±0.5℃
温度暴走制御 冷却水の流れを自動的に制御し、温度暴走<2℃
攪拌速度 0-1500r / min
有効量 500ml
リアクターにフィルターを挿入 15〜20μm
ガスマスフローコントローラーの範囲 200SCCM
回転計の流量範囲 100ml/分
空気圧冷却水制御弁 CV:0.2

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